Transport gratuit la punctele de livrare Pick Up peste 299 lei
Packeta 15 lei
Easybox 20 lei
Cargus 25 lei
FAN 25 lei
Cum să cumpăr
Ajutor
Livrare
Packeta 15 lei
Easybox 20 lei
Cargus 25 lei
FAN 25 lei
Transport gratuit la punctele de livrare Pick Up peste 299 lei
Consilier de cumpărături
Suntem aici pentru tine!
031 22 95 182
Contul meu
Faceți parte dintr-o comunitate de iubitori de cărți din întreaga lume și beneficiați de o mulțime de avantaje
Creați-vă un cont gratuit
▸
Gol :-(
0
Simulation of Deposition Processes with PECVD Apparatus
Limba
engleză
engleză
Carte
Copertă tare
Discusses the study of simulating the growth of a thin film by chemical vapour deposition (CVD) proc...
Descrierea completă
Codul Libristo: 06439295
?
294 b
294 b
717 lei
▸
-17
%
592
lei
șansă 50%
Şanse de a obține acest titlu
Când primesc cărțile?
30 de zile pentru retur bunuri
Ar putea de asemenea, să te intereseze
Discusses the study of simulating the growth of a thin film by chemical vapour deposition (CVD) processes. This title presents underlying hierarchy of models for low-temperature and low-pressure plasma in order to discuss the processes that can be used to implant or deposit thin layers of important materials.
Informații despre carte
Titlu complet
Simulation of Deposition Processes with PECVD Apparatus
Autor
Meraa Arab
Limba
engleză
engleză
Legare
Carte - Copertă tare
Data publicării
2012
Număr pagini
144
EAN
9781621003656
ISBN
9781621003656
Codul Libristo
06439295
Editura
Nova Science Publishers Inc
Greutatea
352
Dimensiuni
162 x 234 x 14
