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Kombination von zweiphotonenbasiertem direktem Laserschreiben mit großflächiger und hochpräziser Nanopositionierung
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Im Bereich der Mikro- und Nanofabrikation ist das direkte Laserschreiben eine vielversprechende Technik zur maskenlosen Strukturierung von Photolacken. Mittels Zwei-Photonen-Absorption (2PA) kann das Laserschreiben auch zur Herstellung von dreidimensionalen Bauteilen mit minimalen Strukturbreiten von sub-100nm verwendet werden. Mit der optischen Präzision gehen auch Forderungen an die Präzision der Mess- und Positioniersysteme einher, um den technischen Stand vonzweiphotonenbasiertem Laserschreiben weiter voranzutreiben. Zur Kombination von Nanopositionier- und Nanomessmaschinen (NPM-Maschinen) mit 2PA-Laserschreiben wird ein Konzept entwickelt und umgesetzt sowie der daraus entstandene Aufbau charakterisiert. Sowohl die großflächige als auch die hochpräzise Positionierung eröffnen neue Möglichkeiten in der Fabrikation. Insbesondere ist die hohe Präzision ausschlaggebend für Untersuchungen zur Unterschreitung der Beugungsbegrenzung bei Laserschreibprozessen.
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