Contact
Cum să cumpăr
Livrare
Consilier de cumpărături
engleză
820 b
Până la 30 de zile pentru returnare
Clienții au cumpărat de asemenea
Carte broșată
273.97
lei
/
Carte broșată
89.58
lei
/
Carte broșată
149.14
lei
/
Copertă tare
147.79
lei
Issues relating to the high-K gate dielectric are among the greatest challenges for the evolving International Technology Roadmap for Semiconductors (ITRS). More than just an historical overview, this book will assess previous and present approaches related to scaling the gate dielectric and their impact, along with the creative directions and forthcoming challenges that will define the future of gate dielectric scaling technology. Topics include: an extensive review of Moore's Law, the classical regime for SiO2 gate dielectrics; the transition to silicon oxynitride gate dielectrics; the transition to high-K gate dielectrics (including the drive towards equivalent oxide thickness in the single-digit nanometer regime); and future directions and issues for ultimate technology generation scaling. The vision, wisdom, and experience of the team of authors will make this book a timely, relevant, and interesting, resource focusing on fundamentals of the 45 nm Technology Generation and beyond.
Informații despre carte
engleză
Dăruiește această carte chiar astăzi
Este foarte ușor
1 Adaugă cartea în coș și selectează Livrează ca un cadou 2 Îți vom trimite un voucher în schimb 3 Cartea va ajunge direct la adresa destinataruluiAr putea de asemenea, să te intereseze
/
Copertă tare
493.08
lei
/
Carte broșată
41.98
lei
Bună ziua! Sunt Libroamiko, consilierul dumneavoastră de cărți.
Cu ce vă pot ajuta?