Transport gratuit la punctele de livrare Pick Up peste 299 lei
Packeta 15 lei
Easybox 20 lei
Cargus 25 lei
FAN 25 lei
Cum să cumpăr
Ajutor
Livrare
Packeta 15 lei
Easybox 20 lei
Cargus 25 lei
FAN 25 lei
Transport gratuit la punctele de livrare Pick Up peste 299 lei
Consilier de cumpărături
Suntem aici pentru tine!
031 22 95 182
Contul meu
Faceți parte dintr-o comunitate de iubitori de cărți din întreaga lume și beneficiați de o mulțime de avantaje
Creați-vă un cont gratuit
▸
Gol :-(
0
Heißdraht-CVD von Siliziumschichten - Untersuchungen zur Stabilisierung des Abscheideprozesses.
Limba
germană
germană
Carte
Carte broșată
Heißdraht-CVD wird als vielversprechende Alternative für das etablierte Plasma Enhanced Chemical Vap...
Descrierea completă
Codul Libristo: 02821308
?
122 b
122 b
258 lei
▸
-4
%
245
lei
șansă 50%
Şanse de a obține acest titlu
Când primesc cărțile?
30 de zile pentru retur bunuri
Heißdraht-CVD wird als vielversprechende Alternative für das etablierte Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition gesehen. Eine während des Heißdraht-CVD-Prozesses an den Drähten ablaufende, unerwünschte Phasenumwandlung führt nach wenigen Stunden Beschichtung zu mechanischem Versagen der Drähte und damit zu einem Prozessabbruch. In dieser Arbeit wurden Lösungen erarbeitet, um den Beschichtungsprozess über Tage hinweg stabil zu betreiben.
Informații despre carte
Titlu complet
Heißdraht-CVD von Siliziumschichten - Untersuchungen zur Stabilisierung des Abscheideprozesses.
Autor
Artur Laukart
Limba
germană
germană
Legare
Carte - Carte broșată
Data publicării
2013
Număr pagini
184
EAN
9783839605288
Codul Libristo
02821308
Editura
Fraunhofer Verlag
Dimensiuni
148 x 210
