Contact
Cum să cumpăr
Livrare
Consilier de cumpărături
engleză
82 b
Până la 30 de zile pentru returnare
Clienții au cumpărat de asemenea
/
Carte broșată
57.00
lei
/
Carte broșată
66.88
lei
/
Carte broșată
246.96
lei
This book describes the principles and basic technologies of extreme ultraviolet lithography (EUVL). The topics include why research on EUVL was begun and why an exposure wavelength of 13.5 nm was selected; the design of the optical system, which employs reflective mirrors; the use of a multilayer film to make a reflective-type mask and how masks are inspected; an historical overview of the development of light sources; resist materials; and the recent performance of lithographic tools for mass production. Three innovations were key to the development: of Mo/Si multilayer films with a high reflectivity and to the shaping and metrology of aspherical mirrors with a precision of less than 0.1 nm. The technology for measuring figure error and the fabrication technology now meet the performance targets. Thus, EUVL has become the most promising lithographic technology for device fabrication at the 7-nm node.
Informații despre carte
engleză
Categorii
Dăruiește această carte chiar astăzi
Este foarte ușor
1 Adaugă cartea în coș și selectează Livrează ca un cadou 2 Îți vom trimite un voucher în schimb 3 Cartea va ajunge direct la adresa destinataruluiAr putea de asemenea, să te intereseze
Bună ziua! Sunt Libroamiko, consilierul dumneavoastră de cărți.
Cu ce vă pot ajuta?