Livrare gratuită pentru comenzile peste 349,00 lei.

Verifică starea comenzii

Faceți parte dintr-o comunitate de iubitori de cărți din întreaga lume și beneficiați de o mulțime de avantaje Creați-vă un cont gratuit

Transport gratuit la punctele de livrare Pick Up peste 349.00 lei

Packeta 15.00 lei Serviciul de curierat Cargus 28.00 lei Easybox 20.00 lei FAN Courier 20.00 lei Punct FAN 16.00 lei Punct DPD 17.00 lei Curier DPD 25.00 lei

Contact

Cum să cumpăr

Ajutor

Contul meu

▸ Gol :-(

Livrare gratuită pentru comenzile peste 349,00 lei.

Dry Etching Technology for Semiconductors

Name: Dry Etching Technology for Semiconductors
Brand: Springer, Berlin
SKU: 05147816
Price: 834.26 RON
Availability: InStock
Author: Kazuo Nojiri
ISBN: 9783319102948

Kazuo Nojiri

Limba

engleză

Carte Copertă tare

Codul Libristo: 05147816

Editura Springer, Berlin, noiembrie 2014

This book is a must-have reference to dry etching technology for semiconductors, which will enable e... Descrierea completă

Codul Libristo: 05147816

386 b

834.26 lei

În depozitul extern Expediem în 10-13 zile

Până la 30 de zile pentru returnare

Clienții au cumpărat de asemenea

Abafi (1854) Miklos Josika

Copertă tare

287.99 lei

Manifiesto Para Trabajar de Forma Más Inteligente: ?Cuándo, dónde y cómo trabaja mejor? MR Guy Clapperton

Carte broșată

106.17 lei

Az isteni üdvösség Anyja Swami Amritaswarupananda Puri

Carte broșată

70.12 lei

Wanderkarte 113 Alpi Marittime 1:50000

Hartă

68.35 lei

Eine Frauenfahrt um die Welt Ida Pfeiffer

Carte broșată

182.84 lei

L'Anatomie de la noirceur Curran

Copertă tare

428.14 lei

Harrap's Caught Harlan Coben

Carte broșată

74.59 lei

El origen de los reinos Berdejo Gómez

Carte broșată

137.55 lei

Eres La Princesa De Las Unas Rojas Marta Garces

Carte broșată

51.52 lei

Erstens kommt es anders und zweitens als man denkt oder Fieber in Stralsund Eckhard Duhme

Carte broșată

40.40 lei

This book is a must-have reference to dry etching technology for semiconductors, which will enable engineers to develop new etching processes for further miniaturization and integration of semiconductor integrated circuits. The author describes the device manufacturing flow, and explains in which part of the flow dry etching is actually used. The content is designed as a practical guide for engineers working at chip makers, equipment suppliers and materials suppliers, and university students studying plasma, focusing on the topics they need most, such as detailed etching processes for each material (Si, SiO2, Metal etc) used in semiconductor devices, etching equipment used in manufacturing fabs, explanation of why a particular plasma source and gas chemistry are used for the etching of each material, and how to develop etching processes. The latest, key technologies are also described, such as 3D IC Etching, Dual Damascene Etching, Low-k Etching, Hi-k/Metal Gate Etching, FinFET Etching, Double Patterning etc.