Contact
Cum să cumpăr
Livrare
Consilier de cumpărături
Defects and Diffusion in Silicon Processing: Volume 469
engleză
64 b
Curând
Termenul este necunoscut
Până la 30 de zile pentru returnare
Clienții au cumpărat de asemenea
/
Carte broșată
138.87
lei
/
Carte broșată
66.36
lei
A strong effort is has been devoted to the investigation of defects and diffusion phenomena in silicon. This effort is not only driven by the stringent technological requirements for the processing of integrated circuits of increased complexity and miniaturization, but also by the lack of fundamental understanding of many of the critical parameters and mechanisms involved. Experimental and theoretical investigations are needed to identify the properties of the defects, the mechanisms of impurity diffusion and the strength of impurity-defect, defect-defect, and impurity-impurity interactions. This book provides a unique and interdisciplinary forum for the discussion of experimental, theoretical and applied aspects of defects and diffusion phenomena in silicon. Topics include: defect properties and diffusion phenomena in silicon; experimental and theoretical assessments of defect properties; transient-enhanced diffusion and dopant clustering; damage evolution and extended defects and gettering procedures.
Informații despre carte
engleză
Dăruiește această carte chiar astăzi
Este foarte ușor
1 Adaugă cartea în coș și selectează Livrează ca un cadou 2 Îți vom trimite un voucher în schimb 3 Cartea va ajunge direct la adresa destinataruluiAr putea de asemenea, să te intereseze
/
Carte broșată
103.13
lei
/
Carte broșată
112.28
lei
/
Carte broșată
81.53
lei
/
Carte broșată
67.51
lei
Bună ziua! Sunt Libroamiko, consilierul dumneavoastră de cărți.
Cu ce vă pot ajuta?