Transport gratuit la punctele de livrare Pick Up peste 299 lei
Packeta 15 lei
Easybox 20 lei
Cargus 25 lei
FAN 25 lei
Cum să cumpăr
Ajutor
Livrare
Packeta 15 lei
Easybox 20 lei
Cargus 25 lei
FAN 25 lei
Transport gratuit la punctele de livrare Pick Up peste 299 lei
Consilier de cumpărături
Suntem aici pentru tine!
031 22 95 182
Contul meu
Faceți parte dintr-o comunitate de iubitori de cărți din întreaga lume și beneficiați de o mulțime de avantaje
Creați-vă un cont gratuit
▸
Gol :-(
0
Chemical Vapor Deposition of Tungsten and Tungsten Silicides for VLSI/ ULSI Applications
Limba
engleză
engleză
Carte
Copertă tare
This monograph condenses the relevant and pertinent literature on blanket and selective CVD of tungs...
Descrierea completă
Codul Libristo: 04726841
?
234 b
234 b
470
lei
În depozitul extern
Expediem în 15-20 zile
30 de zile pentru retur bunuri
Ar putea de asemenea, să te intereseze
/
Carte broșată
574
lei
This monograph condenses the relevant and pertinent literature on blanket and selective CVD of tungsten (W) into a single manageable volume. The book supplies the reader with the necessary background to bring up, fine tune, and successfully maintain a CVD-W process in a production set-up. Materials deposition chemistry, equipment, process technology, developments, and applications are described.
Informații despre carte
Titlu complet
Chemical Vapor Deposition of Tungsten and Tungsten Silicides for VLSI/ ULSI Applications
Autor
John E. J. Schmitz
Limba
engleză
engleză
Legare
Carte - Copertă tare
Data publicării
1992
Număr pagini
251
EAN
9780815512882
ISBN
0815512880
Codul Libristo
04726841
Editura
William Andrew
Greutatea
470
Dimensiuni
152 x 229 x 18
Categorii
