Transport gratuit la punctele de livrare Pick Up peste 299 lei
Packeta 15 lei
Easybox 20 lei
Cargus 25 lei
FAN 25 lei
Cum să cumpăr
Ajutor
Livrare
Packeta 15 lei
Easybox 20 lei
Cargus 25 lei
FAN 25 lei
Transport gratuit la punctele de livrare Pick Up peste 299 lei
Consilier de cumpărături
Suntem aici pentru tine!
031 22 95 182
Contul meu
Faceți parte dintr-o comunitate de iubitori de cărți din întreaga lume și beneficiați de o mulțime de avantaje
Creați-vă un cont gratuit
▸
Gol :-(
0
Advances and Challenges in Chemical Mechanical Planarization: Volume 991
Limba
engleză
engleză
Carte
Copertă tare
Chemical mechanical planarization (CMP) has been a leading-edge technology in semiconductor processi...
Codul Libristo: 02060445
?
82 b
curând
82 b
curând
194 lei
▸
-14
%
165
lei
Retipărire preconizată
Termenul este necunoscut
Termenul este necunoscut
30 de zile pentru retur bunuri
Ar putea de asemenea, să te intereseze
Chemical mechanical planarization (CMP) has been a leading-edge technology in semiconductor processing for the past 15
Informații despre carte
Titlu complet
Advances and Challenges in Chemical Mechanical Planarization: Volume 991
Limba
engleză
engleză
Legare
Carte - Copertă tare
Data publicării
2007
Număr pagini
371
EAN
9781558999510
ISBN
1558999515
Codul Libristo
02060445
Editura
Materials Research Society
Greutatea
641
Dimensiuni
157 x 234 x 25
